机译:氢对磁控溅射沉积氮化铜薄膜的影响
School of Physical Science and Technology, Lanzhou University, Lanzhou 73000, China;
copper nitride; thin films; hydrogen; structure; thermal properties;
机译:添加到氩氮溅射气体中的氢含量和衬底偏置电压的参数空间,以通过不平衡磁控溅射法形成立方氮化硼薄膜
机译:活性直流磁控溅射沉积氮化铜纳米晶体薄膜:生长与表征
机译:射频磁控溅射沉积氮化铜(CU3N)薄膜
机译:磁控溅射沉积氮化铜薄膜镍的研究
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:通过磁控溅射制备具有优异的光催化活性的氮化铜膜
机译:通过高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射在含氢等离子体中沉积的β-Ta和α-Cr薄膜