机译:脉冲激光沉积制备透明导电TiO_2:Nb薄膜
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (A1ST), AIST Tsukuba Central 2, 1-1-7 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, Japan;
National Taipei University of Technology 1, Sec.3, Zhongxiao E. Rd., Taipei, Taiwan, ROC;
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (A1ST), AIST Tsukuba Central 2, 1-1-7 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, Japan;
pulsed laser deposition; Nb-doped TiO_2 thin films; transparent conducting oxide;
机译:制备条件对ZnO:Ge透明导电薄膜的光电性能的影响,由脉冲激光沉积制造
机译:通过混合沉积结构制备Bi:TiO_2薄膜:脉冲激光沉积和热蒸发
机译:通过脉冲激光沉积在聚对苯二甲酸乙二醇酯基板上沉积的高导电性和透明的掺杂铝的氧化锌薄膜
机译:脉冲激光沉积法制备透明导电ZnO:Nb2O5薄膜
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:由阳极氧化铝模板作为透明导电电极制备铝纳米网薄膜
机译:高透明导电aZO / Zr50Cu50 / aZO薄膜,通过脉冲激光沉积生长可见和近红外波长范围广