机译:Pld硅薄膜的形貌和光学性质
Departamento de Fisica, Instituto Superior Tecnico, Lisboa, Portugal;
pulsed laser deposition; nano-crystalline silicon; thin films;
机译:PLD沉积在硅片上的Nd掺杂磷酸盐薄膜的结构和形态研究
机译:结构,光学,非线性光学,电介质特性和LA_(0.01)BA_(0.99)TiO_3,SM_(0.5)SR_(0.5)COO_3和SM_(0.5)SR_(0.01)BA_(0.01)BA_的电子结果 (0.99)使用脉冲激光沉积(PLD)技术在石英基板上生长的TiO_3薄膜
机译:二氧化硅薄膜的光学和形态学性质
机译:热退火对通过层(LBL)沉积技术制备的氢化硅(Si:H)薄膜的光学,结构和形态学性能的影响
机译:分子束外延在硅上生长的锗薄膜的形态演化与光学性质
机译:PLD衍生的ZnO薄膜的表面形貌和纳米力学性能
机译:V2O5:TiO2薄膜的形态学和光学性质通过PLD技术制备