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Characteristics of indium incorporation in InGaN/GaN multiple quantum wells grown on a-plane and c-plane GaN

机译:在a面和c面GaN上生长的InGaN / GaN多量子阱中铟的掺入特性

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摘要

We investigated the characteristics of InGaN-based multiple quantum wells (MQWs) grown on a-plane and c-plane GaN templates, which were grown by metal-organic chemical vapor deposition onto r-plane and c-plane sapphire, respectively. A shorter photoluminescence peak wavelength and peaks with larger full-width at half-maximum are observed for MQWs grown on an a-plane GaN template compared with a c-plane GaN template, despite the same growth conditions used. A growth model based on the atomic configuration of the growing surfaces is proposed to explain the difference in optical emission properties and indium incorporation between a-plane and c-plane MQWs.
机译:我们研究了在a平面和c平面GaN模板上生长的基于InGaN的多量子阱(MQW)的特性,这些模板分别通过金属有机化学气相沉积到r平面和c平面蓝宝石上生长。尽管使用了相同的生长条件,但与在c平面GaN模板上生长的MQ晶相比,在a平面GaN模板上生长的MQW观察到了更短的光致发光峰波长和半峰全宽。提出了一种基于生长表面原子构型的生长模型,以解释a平面和c平面MQWs的发光特性和铟掺入的差异。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2012年第21期|p.1-4|共4页
  • 作者

    Song Keun-Man;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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