机译:低电阻率,过饱和硅单晶磷掺杂
机译:低电阻率,过饱和硅单晶磷掺杂
机译:通过通过无抗抗性光刻图案化的单层掺杂来制造原子掺杂线
机译:在反应性单分子层辅助的热纳米压印光刻中使用荧光染料掺杂的聚苯乙烯薄膜进行抗蚀剂图案检查
机译:使用低功耗金属和用于无掺杂Si太阳能电池的薄TiOx界面层对低掺杂N型Si的接触电阻率降低
机译:使用分子单层掺杂在硅中进行超浅磷扩散。
机译:在6英寸N掺杂的低电阻率SiC基板上的常压P-GaN栅极AlGaN / GaN Hemts的高热耗散
机译:使用低功函数金属和薄TiOx界面层的低掺杂n型Si用于无掺杂Si太阳能电池的接触电阻率降低
机译:低温电阻欧姆接触中等掺杂的n-Gaas,低温处理