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机译:B注入硅中准分子激光退火引起的电激活现象
IFN, CNR, I-00156 Rome, Italy;
DOPANT DIFFUSION; BORON; REDISTRIBUTION; JUNCTIONS; KINETICS; SI;
机译:准分子激光退火多晶硅有源层结晶特性的电学评估
机译:准分子激光退火中氧对锗中硼的电活化的作用
机译:准分子激光退火处理硅膜中硼的电活化
机译:准分子激光退火对4H-SiC中离子注入的氮和铝的电活化
机译:准分子激光辐照下硅膜中现象的计算机分析模型。
机译:通过水下激光退火结晶成多晶硅薄膜并同时灭活电缺陷
机译:准分子激光退火铝诱导的硅薄膜晶化
机译:脉冲准分子激光(308海里)退火离子注入硅和太阳能电池制造