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Extended shape evolution of low mismatch Si_(1-x)Ge_(x) alloy islands on Si(100)

机译:Si(100)上低失配Si_(1-x)Ge_(x)合金岛的扩展形状演变

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摘要

The sequence of shape transitions in low mismatch, dilute coherent Si_(1-x)Ge_(x) (x<0.2) alloy islands was documented by scanning tunneling microscopy and cross-sectional transmission electron microscopy. In dilute Si_(1-x)Ge_(x) islands we observe an extended shape evolution involving a new "barn" shape formed by introduction of steep {111} facets not observed at higher mismatch strain. This extended shape evolution implies a delayed onset of plastic deformation as a result of an altered competition between strain relaxation via coherent islands and the introduction of dislocations in this regime.
机译:在低失配,稀疏相干Si_(1-x)Ge_(x)(x <0.2)合金岛中的形状转变顺序通过扫描隧道显微镜和截面透射电子显微镜记录。在稀薄的Si_(1-x)Ge_(x)岛中,我们观察到扩展的形状演化,其中包括通过引入在较高失配应变下未观察到的陡峭{111}小面而形成的新“谷仓”形状。这种扩展的形状演变暗示了塑性变形的延迟,这是由于通过相干岛的应变松弛与在该状态下引入位错之间竞争性改变的结果。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2004年第13期|p.2262-2264|共3页
  • 作者单位

    Department of Physics, Colorado School of Mines, Golden, Colorado 80401;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;
  • 关键词

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