机译:氮掺杂的切克劳斯基硅片中出现“伞状”沉淀
Materials Science and Engineering Department, North Carolina State University, Raleigh, North Carolina 27695-7916;
机译:退火气氛对常规和氮掺杂直拉硅片中通过快速热处理形成的铜沉淀物的复合活性的影响
机译:惰性或氧化环境下斜线退火对掺氮切克劳斯基硅片中氧沉淀剥蚀区形成的影响
机译:氮掺杂的直拉硅中氧沉淀物的热稳定性
机译:氮气掺杂Czochralski硅的氧气沉淀物的热稳定性
机译:CZOCHRALSKI硅晶圆中的裸露区域。
机译:碳化硅-碳化硅纳米粒子在硅晶片表面的生长和自组装成蠕虫状纳米杂化结构。
机译:酸蚀刻的Czochralski生长硅晶片的氧气测量