机译:石墨烯/ MoSe_2 van der Waals异质界面中肖特基势垒高度的电场调制
Institute of Industrial Science, University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro, Tokyo 153-8505, Japan;
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Institute of Industrial Science, University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro, Tokyo 153-8505, Japan,Institute for Nano Quantum Information Electronics, University of Tokyo, 4-6-1 Komaba, Meguro, Tokyo 153-8505, Japan;
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机译:偏置和栅极可调气体传感器响应,源于石墨烯/ MOS2范德瓦尔斯的肖盖特屏障高度的调制
机译:Graphene / Gete van der Wa种异性结构:功能舒张装置,具有通过外部应变和电场调制肖特基障碍
机译:石墨烯/ WSeTe van der Waals异质结构:可通过层间耦合和电场控制电子性能和肖特基势垒
机译:通过外部电场调整硼酮/ MOS_2 van der Wavs异质结构的肖特基障碍
机译:van der Waals材料的电气运输和热膨胀:石墨烯和拓扑绝缘体
机译:石墨烯-MOTE2 van der Waves异质结构的应变和电场可控的肖特基障碍和接触类型
机译:石墨烯/ mose2中肖特基势垒高度的电场调制 范德瓦尔斯异质界面