首页> 美国卫生研究院文献>Elsevier Sponsored Documents >Designing thin film materials — Ternary borides from first principles
【2h】

Designing thin film materials — Ternary borides from first principles

机译:设计薄膜材料-第一性原理的三元硼化物

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

Exploiting the mechanisms responsible for the exceptional properties of aluminum based nitride coatings, we apply ab initio calculations to develop a recipe for designing functional thin film materials based on ternary diborides. The combination of binary diborides, preferring different structure types, results in supersaturated metastable ternary systems with potential for phase transformation induced effects. For the exemplary cases of MxW1 − xB2 (with M = Al, Ti, V) we show by detailed ab initio calculations that the respective ternary solid solutions are likely to be experimentally accessible by modern depositions techniques.
机译:利用引起铝基氮化物涂层优异性能的机理,我们从头开始进行计算,以开发出基于三元二硼化物的功能性薄膜材料设计方案。二硼化二硼化物的组合,优选不同的结构类型,导致过饱和的亚稳态三元体系,具有产生相变效应的潜力。对于MxW1-xB2(M = Al,Ti,V)的示例性情况,我们通过详细的从头算计算表明,现代沉积技术很可能通过实验获得相应的三元固溶体。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号