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机译:低温和博世深反应离子蚀刻的元表面制造
Angela M. Baracu; Christopher A. Dirdal; Andrei M. Avram; Adrian Dinescu; Raluca Muller; Geir Uri Jensen; Paul Conrad Vaagen Thrane; Hallvard Angelskår;
机译:通过聚焦离子束和低温深反应离子刻蚀相结合的干法制造微型器件
机译:通过局部镓注入和低温深反应离子刻蚀制造硅纳米结构
机译:原子层沉积增强了具有低温深反应离子刻蚀的微机械器件的快速干法制造
机译:硅纳米结构制造中的局部镓掺杂和低温深反应离子蚀刻
机译:使用灰度光刻和深反应离子刻蚀开发深硅相菲涅耳透镜
机译:通过深反应离子蚀刻制造高纵横比硅光栅
机译:用于传感器的硅低温反应离子刻蚀技术
机译:通过深反应离子刻蚀制造微系统,包括例如:提供用于深反应离子刻蚀的刻蚀工具,进行包括刻蚀步骤的深离子刻蚀的多个重复处理间隔
机译:硅基太赫兹元件的多步深反应离子刻蚀制造工艺
机译:硅基TERAHERTZ组件的多步深反应离子刻蚀制备工艺
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