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康卫红;
无;
Ⅲ族氮化物; 三元合金; 磁控反应性离子蚀刻;
机译:使用磁控反应离子蚀刻(MC-RIE)及其应用于离子阻力集成微泵的氟化聚酰亚胺微电网的制造
机译:直流电的微观结构和性能发展的研究磁控共溅射三元钛铝氮化物涂层第二部分磁控放电功率的影响
机译:超磁控等离子体形成的无定形C:H和CN_X:H薄膜的表面蚀刻效应,用于场发射
机译:在静态磁控硅三极管反应离子蚀刻中使用反应器铝氯化铝形成的Al-Cu合金蚀刻
机译:含芳香族化合物的循环负载情况下碳氧羰基和碳氧氮化物的反应性和选择性。
机译:磁控激光诱导等离子体微加工单晶体硅加工特性研究
机译:用M / NEMS应用的磁控施加反应离子蚀刻多晶3C-SiC蚀刻研究
机译:BCl(3)/ Cl(2)ICp等离子体中的III族氮化物蚀刻选择性;材料研究学会互联网氮化物半导体研究杂志
机译:磁控反应性喷涂氮化物,碳化物和碳氮化物涂层的装置
机译:减少氮化物衬层的反应性离子蚀刻期间用于DRAM器件的位线接触的氮化物栅极盖层的腐蚀的方法
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