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【2h】

Low Voltage Operating 2D MoS2 Ferroelectric Memory Transistor with Hf1-xZrxO2 Gate Structure

机译:低压操作2D MOS2具有HF1-XZRXO2栅极结构的铁电存储器晶体管

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摘要

Device structure and basic properties of the MoS2/HZO FeFET. a Three-dimensional schematic representation of the MoS2/HZO FeFET. b Schematic cross section of the MoS2/HZO FeFET. c Top-view SEM image of the fabricated MoS2/HZO FeFET with Ti/Au source/drain electrodes, HZO ferroelectric gate insulators, and MoS2 channels. d Height profile using contact-mode AFM along the red line in c, validating the height of the MoS2 channel.
机译:器件结构和MOS2 / HZO FEFET的基本属性。 MOS2 / HZO FEFET的三维示意图表示。 B MOS2 / HZO FEFET的示意横截面。 C顶视图SEM图像的制造MOS2 / HZO FEFET,带Ti / Au源/漏电极,HZO铁电栅极绝缘体和MOS2通道。 D高度轮廓使用沿C中的红线沿着红线进行触摸型AFM,验证MOS2通道的高度。

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