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【2h】

A Comparative Study on the Ferroelectric Performances in Atomic Layer Deposited Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films Using Tetrakis(ethylmethylamino) and Tetrakis(dimethylamino) Precursors

机译：四（乙基甲基氨基）和四（二甲基氨基）前体在原子层沉积Hf0.5Zr0.5O2薄膜中铁电性能的比较研究

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Comparison between TDMA-Hf, Zr and TEMA-Hf, Zr source specification

机译：TDMA-Hf，Zr和TEMA-Hf，Zr源规范之间的比较

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期刊名称 Nanoscale Research Letters
作者
Baek Su Kim; Seung Dam Hyun; Taehwan Moon; Keum Do Kim; Young Hwan Lee; Hyeon Woo Park; Yong Bin Lee; Jangho Roh; Beom Yong Kim; Ho Hyun Kim; Min Hyuk Park; Cheol Seong Hwang;
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作者单位

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年(卷),期 2020(15),-1
年度 2020
页码 -1
总页数 11
原文格式 PDF
正文语种
中图分类生化遗传学;生化药理学;
关键词
Ferroelectric Hf;

机译：铁电H;

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