机译:通过使用金属有机化学气相沉积法简单地改变V / III比可实现宽范围可调密度的InAs / GaAs量子点
InAs quantum dots V/III ratio MOCVD;
机译:金属有机化学气相沉积法生长(B)InAs / GaAs量子点的饱和密度特性
机译:金属有机化学气相沉积的INAS / INP量子点调谐外腔激光连续波操作
机译:以1.28 / spl mu / m的InAs-GaAs量子点发射激光,并通过金属有机化学气相沉积法生长AlGaAs包覆层
机译:通过金属有机化学气相沉积优化InAs / InGaAsP / InP量子点的双帽工艺
机译:在2-D电场下探索InAs / GaAs量子点和量子点分子中的单孔状态
机译:通过化学束外延法对InAs / GaAs量子点可调的发射波长进行光学相干层析成像
机译:通过使用金属有机化学气相沉积法简单地改变V / III比,可实现宽范围可调密度的InAs / GaAs量子点