首页> 美国卫生研究院文献>Nanoscale Research Letters >InAs/GaAs quantum dots with wide-range tunable densities by simply varying V/III ratio using metal-organic chemical vapor deposition
【2h】

InAs/GaAs quantum dots with wide-range tunable densities by simply varying V/III ratio using metal-organic chemical vapor deposition

机译:通过使用金属有机化学气相沉积法简单地改变V / III比可实现宽范围可调密度的InAs / GaAs量子点

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

The complicated behaviors of InAs/GaAs quantum dots with increasing V/III ratio associated with several competing mechanisms have been described. The results demonstrate that the densities of InAs quantum dots can be tuned in a wide range from 105 to 1010 cm−2 by simply manipulating V/III ratio via metal-organic chemical vapor deposition. These results are mainly ascribed to the changes of coverage and In adatom migration length due to the increasing V/III ratio.
机译:已经描述了与几种竞争机制有关的,随着V / III比增加的InAs / GaAs量子点的复杂行为。结果表明,通过简单地操作,InAs量子点的密度可以在10 5 到10 10 cm −2 的宽范围内进行调节通过金属有机化学气相沉积获得的V / III比。这些结果主要归因于由于增加的V / III比而导致的覆盖率和In原子迁移长度的变化。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号