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Structural Electronic and Thermodynamic Properties of Tetragonal t-SixGe3−xN4

机译:四方t-SixGe3-xN4的结构电子和热力学性质

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摘要

The structural, mechanical, anisotropic, electronic, and thermal properties of t-Si3N4, t-Si2GeN4, t-SiGe2N4, and t-Ge3N4 in the tetragonal phase are systematically investigated in the present work. The mechanical stability is proved by the elastic constants of t-Si3N4, t-Si2GeN4, t-SiGe2N4, and t-Ge3N4. Moreover, they all demonstrate brittleness, because B/G < 1.75, and v < 0.26. The elastic anisotropy of t-Si3N4, t-Si2GeN4, t-SiGe2N4, and t-Ge3N4 is characterized by Poisson’s ratio, Young’s modulus, the percentage of elastic anisotropy for bulk modulus AB, the percentage of elastic anisotropy for shear modulus AG, and the universal anisotropic index AU. The electronic structures of t-Si3N4, t-Si2GeN4, t-SiGe2N4, and t-Ge3N4 are all wide band gap semiconductor materials, with band gaps of 4.26 eV, 3.94 eV, 3.83 eV, and 3.25 eV, respectively, when using the Heyd-Scuseria-Ernzerhof (HSE06) hybrid functional. Moreover, t-Ge3N4 is a quasi-direct gap semiconductor material. The thermodynamic properties of t-Si3N4, t-Si2GeN4, t-SiGe2N4, and t-Ge3N4 are investigated utilizing the quasi-harmonic Debye model. The effects of temperature and pressure on the thermal expansion coefficient, heat capacity, Debye temperature, and Grüneisen parameters are discussed in detail.
机译:在本工作中,系统地研究了四方相中t-Si3N4,t-Si2GeN4,t-SiGe2N4和t-Ge3N4的结构,机械,各向异性,电子和热学性质。机械稳定性由t-Si3N4,t-Si2GeN4,t-SiGe2N4和t-Ge3N4的弹性常数证明。此外,它们均表现出脆性,因为B / G <1.75,而v <0.26。 t-Si 3 N 4 ,t-Si 2 GeN 4 ,t-SiGe < sub> 2 N 4 和t-Ge 3 N 4 的特征在于泊松比,杨氏模量,弹性模量A B 的弹性各向异性,剪切模量A G 的弹性各向异性的百分比以及通用各向异性指数 A U t -Si 3 N 4 t -Si 2 的电子结构GeN 4 t -SiGe 2 N 4 t -Ge < sub> 3 N 4 都是宽带隙半导体材料,使用Heyd-Scuseria-S时带隙分别为4.26 eV,3.94 eV,3.83 eV和3.25 eV。 Ernzerhof(HSE06)混合功能。而且, t -Ge 3 N 4 是准直接间隙半导体材料。 t -Si 3 N 4 t -Si 2 的热力学性质GeN 4 t -SiGe 2 N 4 t -Ge <利用准谐波德拜模型研究了sub> 3 N 4 。详细讨论了温度和压力对热膨胀系数,热容量,德拜温度和Grüneisen参数的影响。

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