快速退火对溅射沉积Al膜微结构及应力的影响

摘要

用直流溅射法在聚酰亚胺(PI)基底上制备了300nm厚的A1膜,并进行快速退火(RTA)处理.用X射线衍射、扫描电子显微镜和曲率法对A1薄膜的微结构及应力随退火温度和时间的变化进行了研究.结果表明,采用快速退火可以使其压应力松弛,甚至转变成张应力.