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周少华; 熊琦; 李锐敏;
湖南工程职业技术学院;
SiGe; MOSFET器件; 阈值电压; 解析模型;
机译:带局部电荷的绝缘体上硅锗金属氧化物半导体场效应晶体管上短沟道应变硅阈值电压的解析模型
机译:绝缘体上硅锗(SGOI)MOSFET上的短沟道双材料栅极(DMG)应变硅(s-Si)阈值电压的解析模型
机译:绝缘子上锗硅衬底上应变硅沟道中应变分布不均匀引起的应变硅金属氧化物半导体场效应晶体管的阈值电压变化
机译:通过Sn注入和激光退火形成的用于应变硅锗沟道P-MOSFET的硅锗锡(SiGeSn)源极和漏极应力源
机译:应变硅锗沟道PMOSFET的开发可集成到现有的硅锗HBT技术中。
机译:子太太辐射耦合对N沟道应变硅模块的数值研究
机译:硅锗(SiGe)衬底上带有应变硅(s-Si)沟道的短沟道双材料栅极(DMG)MOSFET阈值电压的分析模型
机译:Inp n沟道增强模式金属 - 绝缘体 - 半导体场效应晶体管的阈值电压漂移。
机译:带有应变硅沟道NMOS和硅锗沟道PMOS的CMOS
机译:在栅电极中具有由硅/锗引起的具有双轴应变的沟道的晶体管
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