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机译:用于自然缺陷分析的极紫外光刻掩模版的局部掩模图案
Lyons, Adam;
State University of New York at Albany;
机译:使用极紫外显微镜评估多层相缺陷上的极紫外光刻掩模吸收体图案
机译:半间距11nm节点缺陷检测性能的极紫外光刻图案化掩模检查工具的研究
机译:面向16至11 nm半间距生成的极端紫外光刻图案化掩模缺陷检测性能评估
机译:极紫外光刻技术对掩模缺陷的图案依赖性
机译:使用故意模式变形对极端紫外掩模缺陷的缺陷避免
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:极端紫外光刻三维图案的严格模拟 面具
机译:修复多层涂层掩模版毛坯中的局部缺陷,以实现极紫外光刻
机译:用于在极紫外(EUV)光刻中改善图案质量的系统,方法和掩模版以及形成掩模版的方法
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