磁控反应溅射制备钇掺杂TiO2薄膜的研究

张文杰; 朱圣龙; 李瑛; 王福会; 何红波

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磁控反应溅射制备钇掺杂TiO2薄膜的研究

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采用混合靶直流磁控反应溅射法,在玻璃基体上溅射沉积了含有氧化钇的TiO2薄膜.X-射线光电子能谱分析结果表明,薄膜是由Y2O3和TiO2复合氧化物组成的.钇的存在会抑制薄膜中二氧化钛晶体的形成.薄膜的紫外可见光谱透射率略有下降,而反射率有所增加.钇的掺杂对二氧化钛薄膜的光催化活性起负作用,光催化降解甲基橙反应的活性随钇含量的增加而下降.

著录项

来源
《电镀与精饰》 |2009年第3期|1-4|共4页
作者
张文杰; 朱圣龙; 李瑛; 王福会; 何红波;
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作者单位

沈阳理工大学,环境与化学工程学院,辽宁,沈阳,110163;

中国科学院,金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016;

中国科学院,金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016;

中国科学院,金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016;

中国科学院,金属研究所,金属腐蚀与防护国家重点实验室,辽宁,沈阳,110016;

中国科学院,沈阳应用生态研究所,辽宁,沈阳,110016;

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正文语种 chi
中图分类金属表面防护技术;
关键词
TiO2薄膜; 磁控反应溅射; 钇掺杂; 光催化活性; 降解;

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