金刚石高成核选择比图形化技术

摘要

报道了一种新的金刚石薄膜选择生长图形化技术。首先用直流偏压增强的微波等离子体化学气相沉积对图形区域高密度金刚石成核，接着对掩模区域进行一次化学浅腐蚀，然后正常生长金刚石薄膜，得到表面光滑，侧壁陡直的金刚石精细图形。用该技术制作一金刚石微马达结构，其厚度为２μｍ，转子直径１５０μｍ。图形间隙可控制到１－２μｍ。