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CVD金刚石膜表面图形化加工技术的研究

         

摘要

首先用CVD法制备金刚石厚膜,接着在其表面利用氢等离子体辅助刻蚀,然后在铁薄膜的催石墨化作用下,对金刚石膜的表面进行了选择性的刻蚀.结果表明,在氢等离子体的辅助作用下,铁薄膜可以持续对CVD金刚石膜进行刻蚀;如果控制铁薄膜的形状和厚度,可以实现对CVD金刚石膜表面较精确的图形化刻蚀.该技术有望成为一种新的刻蚀金刚石膜的方法.

著录项

  • 来源
    《微细加工技术》 |2008年第3期|25-29|共5页
  • 作者单位

    湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073;

    武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430073;

    武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430073;

    江汉大学,化学与环境工程学院,武汉,430056;

    武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430073;

    武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430073;

    湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,武汉,430073;

    武汉工程大学材料科学与工程学院,武汉,430073;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 无线电电子学、电信技术;
  • 关键词

    金刚石膜; 图形化加工; 刻蚀; 等离子体;

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