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李田泽; 姜志海;
山东工程学院信息与电气学院;
软X射线源; 等离子体; X射线光刻; 干涉诊断; IC;
机译:使用重复产生的等离子体源进行软X射线光刻的实验
机译:基于棱镜的激光干涉光刻系统,用于简单的多光束干涉光刻
机译:激光等离子体源,用于软X射线投影光刻
机译:用于EUV光刻的液滴激光等离子体源的碎片表征和缓解。
机译:用于干涉光刻的超表面产生的复杂3维光学场
机译:用于EUV和软X射线等离子体源的坚固的液态金属收集镜
机译:软X射线投影光刻激光等离子体源的计算模拟
机译:使用极紫外/软X射线激光干涉仪的纳米级光刻
机译:使用极紫外/软X射线激光干涉术的纳米级光刻技术
机译:用于反射光学元件,特别是用于软X射线和极紫外波长范围的清洁方法以及用于极紫外光刻设备的清洁方法包括加热反射光学元件
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