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王旭迪; 刘颖; 洪义麟; 徐向东; 付绍军;
中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,合肥,230026;
合肥工业大学,机械与汽车工程学院,合肥,230009;
反应离子束刻蚀; 光刻胶灰化; 灰化速率; 占空比; 衍射光学元件;
机译:通过直接的氩氧离子束刻蚀通过矩形光刻胶掩模制造极紫外火焰光栅
机译:干碱灰化后,Sandell-Kolthoff反应用于分光光度法测定尿中的碘。捷克共和国1994-2002年期间的结果。
机译:使用反应离子束刻蚀和化学辅助反应离子束刻蚀对GaN进行干法刻蚀
机译:使用相干的反斯托克斯拉曼散射和X射线显微光谱技术研究基于硅的光刻胶。
机译:阴极射线极谱法干法灰化测定血铅:与湿式灰化技术比较
机译:通过大气压发光等离子体光刻胶灰化。
机译:使用氧化化学法评估后灰化光刻胶清洁
机译:在滤色器制造过程中使用的彩色光刻胶去除方法,包括在基板上依次执行等离子体灰化,湿法蚀刻和等离子体灰化工艺,以去除基板上的彩色光刻胶残留物
机译:灰化设备和使用该灰化设备灰化光刻胶膜的方法
机译:有机光刻胶去除成分,能够在硬烘烤,等离子刻蚀和高温灰化过程后有效去除光刻胶和光刻胶残留物
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