新型等离子体源及其应用

摘要

为适应半导体技术的快速发展,需要寻求一些新的等离子体源.介绍了两种比较新颖的等离子体源--表面波等离子体(SWP,surface wave plasma)和磁中性环路放电等离子体(NLD,magnetic neutral loop discharge).前者的设备没有磁场,且结构简单,工作温度低,易于大面积化;而后者的设备可以通过改变其中性环路直径方便地产生各种形状的等离子体,可用于高深宽比刻蚀,也可用于大面积刻蚀.与传统等离子体源相比,它们具有明显的优势,有望成为下一代等离子体源.