基于灰色系统理论的磁流变抛光工艺参数优化研究

摘要

合理的磁流变抛光工艺参数对于提高抛光效率和改善光学工件的表面质量具有关键性的作用.在自行研制的抛光装置基础上,利用正交实验法进行了几个关键工艺参数对单项工艺指标的影响实验,分析了其影响规律.在此基础上利用灰色关联分析的理论解决了磁流变抛光多工艺指标下的工艺参数优化问题,得到了优化的组合方案,并进行了试验验证.