基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计

摘要

提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作.由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位.CCD图象对准系统由两支完全相同且相互独立的光路组成,各光路分别照明掩模和基片上的标记后,清晰地呈现在CCD象面上,采集卡将CCD采集到的数据送入计算机,进行算法处理,给出X、Y、θ的偏差,从而调节掩模和基片的相对位置.该方案可以获得优于1μm的对准精度,工作更为方便、易升级为自动对准.