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激光等离子体和气体放电EUV光刻光源

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摘要

对激光等离子体和气体放电两种EUV光刻光源的发展状况进行了详细介绍,分析了各种激光条件和放电方式的特点及所面临的主要问题,对各种方案的特点、技术参数进行了对比.气体放电装置较高能激光装置结构简单、价格低,故气体放电EUV光源日益受到重视.

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来源
《激光技术》 |2004年第6期|561-564|共4页
作者
程元丽; 李思宁; 王骐;
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作者单位

哈尔滨工业大学,可调谐激光技术国家级重点实验室,哈尔滨,150001;

哈尔滨工业大学,可调谐激光技术国家级重点实验室,哈尔滨,150001;

哈尔滨工业大学,可调谐激光技术国家级重点实验室,哈尔滨,150001;

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正文语种 chi
中图分类应用;
关键词
极紫外光刻; EUV光刻光源; 激光等离子体; 气体放电;

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