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四甲基硅共振增强多光子电离的质谱的机理研究

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本文利用TOF质谱仪研究了TMS的REMPI机理.首次获得了371.00～378.00nm范围内若干个波长点处的TOF质谱,得出了此波段内TMS的REMPI机理为B类光化学行为的结论.对C_2^+的形成机理也给予了简短的讨论.

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来源
《信阳师范学院学报：自然科学版》 |1993年第1期|72-77|共6页
作者
施德恒; 刘新建;
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作者单位

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正文语种 chi
中图分类硅有机化合物;
关键词
TOF质谱; REMPI机理; 四甲基硅;

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