UBMS和PVAD法制备DLC薄膜表面微观形貌分析

摘要

光学薄膜的表面粗糙度是影响薄膜光学特性的重要因素,薄膜表面产生的散射损耗将影响薄膜的光学质量.采用非平衡磁控溅射(Unbalance Magnetron Sputtering,UBMS)和脉冲真空电弧沉积(Pulsed Vacuum Arc Deposition,PVAD)制备类金刚石薄膜(Diamond Like Carbon,DLC),利用泰勒霍普森表面轮廓仪,研究了不同工艺参数、不同薄膜厚度下所沉积的DLC薄膜表面粗糙度变化规律.结果表明:两种沉积技术下,随着薄膜厚度的增加,其表面均方根粗糙度先减小后增大.真空度和脉冲频率对表面粗糙度有显著影响.真空度在0.4～0.8 Pa范围变化时,表面均方根粗糙度变化范围为0.888 6～1.610 4 nm,脉冲频率在1～5Hz范围变化时,表面均方根粗糙度变化范围为1.040 7～1.545 8 nm.