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刘方方;
广东科技学院机电工程系 广东 东莞 523083;
阴极沉积纳米; TiO2; 薄膜制备工艺;
机译:电泳沉积在Ti-6Al-7Nb合金上的纳米TiO2薄膜的微观结构
机译:采用等离子体浸渍离子注入和Tialsi合金阴极沉积制备的TiAlsin超硬涂层的微观结构和性能
机译:双阴极电弧和氮等离子体沉积制备的二氧化钛薄膜的微观结构和可见光致发光
机译:使用大气压等离子体辅助通量法制备微观结构控制磷灰石晶体层 - 新型沉积法
机译:激光化学气相沉积法沉积氮化钛的动力学和微观结构研究。
机译:占空比对阴极等离子体电解沉积TiAl合金制备Al2O3陶瓷涂层性能的影响
机译:低温液相沉积法制备纳米TiO2薄膜及其光生阴极保护性能
机译:304L合金板式拉伸试样部分裂纹扩展的微观形貌分析
机译:阴极可沉积涂料(cdl)组合物,其制备方法,阴极浸涂法,cdl和基材的用途。
机译:制备颜料糊的方法,水性电沉积涂料,其用途,阴极电沉积法和涂覆的制品。
机译:适用于细胞电沉积的阴极,细胞电沉积,通过还原电沉积法生产金属的方法和生产复合假单胞菌的方法
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