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石瑞英; 杜开瑛; 谢茂浓; 张敏; 廖伟;
四川大学物理系;
光化学汽相淀积; 类金刚石膜; 衬底材料; VUV; CVD;
机译:光化学汽相淀积和热线电池法低温生长硅膜中气相反应的比较
机译:直流电弧等离子体喷射化学汽相淀积法制备高质量金刚石薄膜
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机译:金刚石的激光直接写入微处理:类金刚石碳(DLC)和多晶独立式金刚石膜中高导电径迹的产生
机译:类金刚石碳和含氮类金刚石碳膜的性能
机译:重建性TMJ修复材料上的类金刚石碳膜:对细胞毒性化学和机械性能的影响
机译:真空紫外直接激发型光化学汽相淀积法研究SIO2薄膜的低温生长
机译:源气化学对类金刚石碳221膜摩擦学性能的影响
机译:高方向金刚石膜化学汽相淀积系统及成膜方法
机译:等离子体化学汽相淀积系统和制造硬碳膜的方法
机译:带状的汽相淀积衬底的工艺,该带具有一层阻挡氧化物透明的明矾气化的蒸发反应性明矾,并使反应气体进入用于汽相淀积的设备中。
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