首页> 中文期刊> 《半导体学报》 >ECR Plasma CVD法淀积介质膜技术在半导体光电器件中的应用

ECR Plasma CVD法淀积介质膜技术在半导体光电器件中的应用

开具论文收录证明 >>

期刊封面封底目录下载 >>

文献代查 >>

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

电子回旋共振等离子体化学气相淀积（ＥＣＲＰｌａｓｍａＣＶＤ）法淀积介质膜技术是制备性能优良的光电子器件光学膜和电介质膜的重要手段之一．本文报道了ＥＣＲＰｌａｓｍａ

著录项

来源
《半导体学报》 |1999年第9期|837-840|共4页
作者
茅冬生; 谭满清;
展开▼
作者单位

中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程研究中心;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN360.4;TN304.05;
关键词
介质膜; 半导体光电器件; ECRPlasmaCVD; 应用;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟 [J] . 谭满清 ,陆建祖 ,李玉鉴 . 功能材料与器件学报 . 2000,第3期
2. ECR Plasma CVD法淀积808nm大功率半导体激光器光学膜工艺研究 [J] . 谭满清 ,茅冬生 . 半导体学报：英文版 . 1999,第7期
3. ECR Plasma CVD淀积介质膜的工艺模拟 [J] . 谭满清 ,陆建祖 . 光学仪器 . 1999,第004期
4. ECR Plasma CVD淀积介质膜折射率的神经网络模拟 [J] . 李玉鉴 ,谭满清 ,茅冬生 . 半导体学报：英文版 . 1999,第12期
5. 化学气相淀积（CVD）薄膜技术的新近发展及其应用 [J] . 孟广耀 . 薄膜科学与技术 . 1995,第003期
6. ECR Plasma CVD淀积光电器件介质膜的工艺模拟 [C] . 谭满清 ,陆建祖 ,李玉鉴 . 全国化合物半导体.微波器件和光电器件学术会议 . 2000
7. ALD淀积高k栅介质材料与器件特性研究 [A] . 匡潜玮 . 2012

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号