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马书懿; 张小雷; 杨付超; 黄新丽; 马李刚; 李发明; 赵强; 刘静;
西北师范大学物理与电子工程学院;
甘肃省原子分子物理与功能材料重点实验室;
ZnO薄膜; TiO2缓冲层; 退火气氛; 光致发光谱;
机译:氧分压和退火气氛对掺CuZnO薄膜微结构和光学性能的影响
机译:退火温度和退火气氛对磁控溅射蓝宝石(0001)衬底上ZnO薄膜的结构和光学性能的影响
机译:Ti缓冲层对ZnO薄膜微结构和光学性能的演化行为
机译:均质缓冲层和退火处理对ZnO薄膜光学性能的影响
机译:退火温度对Sol-Gel ZnO薄膜力学性能的影响。
机译:热退火对二元TiO2-SiO2溶胶-凝胶涂层光学性能的影响
机译:退火气氛对Nd:ZnO薄膜结构和光学性能的影响
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。
机译:ZnO薄膜退火工艺中气氛控制方法
机译:利用原子层沉积和退火工艺制备ZnO薄膜的方法
机译:制备微结构的SiO2 / TiO2层系统的方法
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