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高温热退火对多层P-on-N结构HgCdTe的界面影响

         

摘要

对高温热退火前后分子束外延(MBE)生长的多层P-on-N结构HgCdTe外延材料的界面变化进行研究.研究发现,高温热退火将引起HgCdTe外延材料界面层的改变,从而破坏原生结构.这种改变可以一定程度上通过工艺条件进行控制.同时,对热退火前后P-on-N结构变化进行了二维数值模拟,研究了不同变化对其能带结构和光电流的影响.

著录项

  • 来源
    《红外与毫米波学报》 |2021年第2期|156-160|共5页
  • 作者单位

    中国科学院上海技术物理研究所红外材料与器件重点实验室 上海200083;

    中国科学院上海技术物理研究所红外材料与器件重点实验室 上海200083;

    中国科学院上海技术物理研究所红外材料与器件重点实验室 上海200083;

    中国科学院上海技术物理研究所红外材料与器件重点实验室 上海200083;

    中国科学院上海技术物理研究所红外材料与器件重点实验室 上海200083;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 半导体能带结构;掺杂;
  • 关键词

    碲镉汞; P-on-N; 界面结构; 热退火; 光电流;

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