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雷宇;
中国电子科技集团公司第十三研究所,河北石家庄 050051;
感应耦合等离子体; 干法刻蚀; 故障分析;
机译:基于感应耦合等离子体刻蚀机和硅蚀刻的200毫米直径中性束源
机译:六氟化硫感应耦合等离子体刻蚀气溶胶沉积钛酸钡的特性及机理
机译:InP异质结构中高纵横比双缝光子晶体波导的超低压感应耦合等离子体刻蚀
机译:局部冷却的高比例碳化硅微通道的感应耦合等离子体刻蚀
机译:电感耦合等离子体刻蚀反应器中离子流和硅刻蚀速率的二维均匀性
机译:六氟化硫气体和后退火处理对电感耦合等离子体刻蚀钛酸钡薄膜的影响
机译:InGaalp复合半导体系统的电感耦合等离子体和电子回旋共振等离子体刻蚀;固态和材料科学
机译:感应耦合等离子体刻蚀装置,特别是用于最小化反应室中发生的高频功率分布的变化
机译:利用磁化感应耦合等离子体刻蚀设备中的异相脉冲调制形成半导体器件接地插针的方法
机译:感应耦合等离子体刻蚀装置的孔或槽零件的形成方法和喷墨头的制造方法
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