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高扬; 许绍俊; 谌青青; 孟祥钦; 张彩虹; 文忠; 杨涛; 杨成韬;
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室;
川庆钻探有限公司地址勘探开发研究院;
AlN薄膜; 溅射功率; 结构; 形貌;
机译:AlN中间层对大功率脉冲磁控溅射SiC薄膜结构和化学性能的影响
机译:直流磁控溅射和大功率脉冲磁控溅射在不同工作压力下沉积的AlN薄膜的结构性能和残余应力的比较
机译:溅射功率对反应性DC溅射技术沉积AlN薄膜结构和光学性质的影响
机译:等离子体能量,等离子体功率,工作距离和惰性气体压力对溅射热弹性钛镍薄膜组成的影响。
机译:功率变化对射频磁控溅射沉积HgCdTe薄膜微观结构和表面形貌的影响
机译:表面形貌对厚膜溅射薄膜结构生长的影响
机译:多层AlN / Co / AlN结构的纳米薄膜及其使用的磁随机存取存储器
机译:AlN外延晶体,其制造方法,使用晶体,光发射器件,表面声波器件和溅射装置制备III族氮化物薄膜的基本基质
机译:溅射沉积过程中硒化银薄膜的化学计量和形貌控制
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