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薄膜制备新技术

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本文介绍制备10μm以下硅膜的新技术——电8化学腐蚀自停止技术.并讨论光照、欧姆接触和pn结空间电荷区等因素对腐蚀特性的影响.

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来源
《固体电子学研究与进展》 |1990年第3期|316-322|共7页
作者
张佐兰;
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作者单位

东南大学微电子中心;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN304.055;
关键词
薄膜制备; 硅膜; 电化学腐蚀;

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