射频磁控共溅射制备光催化Ag-TiO_2薄膜

摘要

采用射频磁控共溅射法制备Ag TiO2 复合薄膜 ,通过控制Ag靶的溅射时间可调节Ag与TiO2 的比例。所制备的Ag TiO2 薄膜为锐钛矿结构。通过紫外光照降解亚甲基蓝溶液和循环伏安法研究Ag TiO2 薄膜光催化及光电化学特性。实验结果表明 :掺 1.5 %Ag的Ag TiO2 薄膜在紫外光照射下能增强亚甲基蓝溶液的降解并得到更大的光生电流。这种光催化的增强主要是由于光生电子 空穴对的复合被抑制的结果。