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李琴; 傅泽禄; 顾大振; Abbas A.Essa; 吉争鸣; 康琳; 冯一军; 杨森祖; 吴培亨;
南京大学电子科学与工程系;
真空退火; 界面工程处理; 边缘结; 制备; 高温超导结; 微波辐照; 超导薄膜;
机译:单通量量子电路的界面工程斜坡边缘结的磁滞控制
机译:透射电子显微镜表征界面工程的斜坡边缘约瑟夫森结
机译:具有界面修饰的势垒的Y-Ba-Cu-O和Nd-Ba-Cu-Oramp边缘结的制备与表征
机译:血浆退火法制石墨烯/金刚石结的制备及界面特性
机译:硅异质结太阳能电池界面的制备和改性。
机译:后退火处理对原子层沉积制备的AlN / Si结构的界面化学性质和能带排列的影响
机译:射频溅射功率和真空退火对偶氮靶法制备陶瓷靶制备的偶氮薄膜性能的影响
机译:采用超高真空扩散焊接制备的受控金属/金属和金属/陶瓷界面的界面科学。
机译:利用中间温度梯度和固体界面制备超浅半导体结以进行缺陷工程
机译:利用缺陷工程和激光退火形成浅结区的方法
机译:利用缺陷工程和激光退火技术形成浅结区的方法
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