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赵杨勇; 刘卫国; 惠迎雪;
西安工业大学陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室;
光学制造; 超光滑表面; 射频磁控溅射; RB-SiC; Si平坦化层; 正交试验; ICP刻蚀; 表面粗糙度;
机译:湿法刻蚀原子尺度平坦化催化剂表面参考刻蚀方法的发展
机译:使用氢等离子体刻蚀增强碳扩散工艺来平坦化CVD金刚石膜
机译:催化剂刻蚀平坦化的4H-SiC(0001)表面终止物种的研究
机译:利用ICP刻蚀技术优化基于MEMS的微针制造工艺
机译:基于砷化铟/锑化镓超晶格的红外探测器的新型刻蚀研究和钝化技术
机译:一种基于参数化的非平坦表面各向异性和各向异性扩散平滑的数值方法
机译:计算表面平坦化:基于体素的方法
机译:电感耦合等离子体(ICp)干蚀刻中三氯化硼/氯气体分子外延生长p型氮化铝镓的刻蚀特性及表面分析
机译:刻蚀方法以平坦化具有关键HDP-CVD沉积工艺的中间层
机译:处理用于半导体器件的结构化工艺层的工艺包括在工艺层上施加辅助层,并使用抛光器件去除填充的工艺层直至工作表面并进行平坦化
机译:微结构的制造方法涉及在金属化结构的电介质层上构建平坦化层,该电化层构建在基板上,其中,基于表面形貌进行加工操作
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