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孙斌玮; 杨明; 苟君; 王军; 蒋亚东;
电子科技大学光电科学与工程学院;
钽酸锂; 铁电薄膜; 射频磁控溅射; 结晶性能; 近化学计量比;
机译:射频磁控溅射沉积法在聚碳酸酯基底上制备结晶型TiO_2薄膜光催化剂
机译:衬底温度对直流反应磁控溅射制备的结晶二氧化钛薄膜结构,形貌和光学性能的影响
机译:厚度对平面磁控溅射制备的近等原子TiNi薄膜的结晶特性的原位TEM研究
机译:射频磁控溅射制备Pb(Zr,Ti)O_3薄膜电容器的铁电性能并通过底电极结晶法对其进行热处理
机译:原位光谱椭圆偏振法研究直流反应磁控溅射沉积的硅膜的结晶度和界面结构。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:制备参数对RF磁控溅射沉积MGO薄膜的结晶,微观结构,表面组成和光学性能的影响
机译:射频和直流磁控溅射制备电解质和电极薄膜的性能
机译:有源直流磁控溅射法制备高性能真空紫外波长范围的光学薄膜
机译:低温,薄膜结晶法和由其制备的产品
机译:低温薄膜结晶法和由该方法制备的产品
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