多功能抗激光损伤高反射膜

摘要

为了能同时满足半导体激光器和YAG激光器对薄膜的特殊要求,在分析高反射膜理论的基础上,选取TiO_2和SiO_2为高、低折射率材料镀制了周期性多层介质高反射膜。研究了材料的光学及机械特性,重点解决了薄膜的消偏振和抗激光损伤问题。实验采用电子束真空镀膜并加以考夫曼离子源辅助沉积,利用TFC软件进行膜系设计,通过调整镀膜工艺参数和监控方法,在10 mm×1.8 mm的K9基底上镀制了符合要求的高反射膜,结果表明,当激光以45°入射时,薄膜在900～1 100 nm的p光与s光的反射率均大于99.95%。所制备的高反射膜性能稳定,抗激光损伤阈值高,能同时满足两种激光器的使用要求。