射频功率对PECVD制备类金刚石薄膜光学性能的影响

摘要

采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法在石英片上生长类金刚石薄膜.通过紫外可见分光光度计、椭偏仪测试手段,研究不同射频功率条件下类金刚石薄膜的光学性能的变化.结果表明,射频功率对类金刚石薄膜的生长具有重要影响,在较低功率下生长的类金刚石薄膜,具有较高的光学透过率和较大的光学带隙.