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VHF-PECVD制备微晶硅材料的均匀性及其结构特性的分析

         

摘要

采用VHF-PECVD技术在多功能系统(cluster tool)中制备了系列硅薄膜,研究薄膜的均匀性及电学特性和结构特性.结果表明:气压和功率的合理匹配对薄膜的均匀性有很大的影响;材料的喇曼测试和电学测试结果表明微晶硅薄膜存在着纵向的结构不均匀,在将材料应用于器件上时,必须要考虑优化合适的工艺条件;硅烷浓度大,相应制备薄膜的晶化程度减弱,即薄膜中非晶成分增多.

著录项

  • 来源
    《液晶与显示》 |2005年第2期|99-102|共4页
  • 作者单位

    光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;

    天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;

    南开大学,光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;

    光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;

    天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;

    南开大学,光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;

    光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;

    天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;

    南开大学,光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;

    光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;

    天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;

    南开大学,光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;

    光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;

    天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;

    南开大学,光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;

    光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;

    天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;

    南开大学,光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;

    光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;

    天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;

    南开大学,光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;

    光电信息技术科学教育部重点实验室,天津,300071;

    天津市光电子薄膜器件与技术重点实验室,天津,300071;

    南开大学,光电子薄膜器件与技术研究所,天津,300071;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 显示材料;薄膜的性质;
  • 关键词

    微晶硅薄膜; 薄膜均匀性; 晶化率;

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