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戴忠玲; 毛明; 王友年;
大连理工大学物理系三束材料表面改性国家重点实验室,大连116024;
不详;
等离子体; 刻蚀; 电容耦合放电; 电感耦合放电; 双频; 鞘层;
机译:工业电感耦合等离子体沉积工具中用于硅晶片太阳能电池表面钝化的低温氢等离子体刻蚀工艺的研究
机译:纳米级ULSI器件制造中高级等离子体刻蚀工艺的等离子体表面相互作用:数值和实验研究
机译:加速等离子体化学分子动力学分析氯等离子体刻蚀工艺
机译:CHF_3 / O_2混合物和O_2后等离子体刻蚀工艺对4H-SiC的反应性离子刻蚀工艺
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:高速飞秒激光等离子体刻蚀和氧化石墨烯的各向异性光响应还原
机译:用于三维晶体集成技术的硅深等离子体刻蚀工艺的开发
机译:InGaalp复合半导体系统的电感耦合等离子体和电子回旋共振等离子体刻蚀;固态和材料科学
机译:等离子体处理工具,双源等离子体刻蚀机,双源等离子体刻蚀方法以及形成平面线圈双源等离子体刻蚀机的方法
机译:等离子体处理工具双源等离子体刻蚀机,双源等离子体刻蚀方法以及形成平面线圈双源等离子体刻蚀机的方法
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