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杨红;
无;
锰氧化物; 薄膜; 电色性质; 化学气相沉积法;
机译:激光功率对通过喷雾雾化和共沉淀激光化学气相沉积法在(001)SrTiO3单晶衬底上制备的YBa2Cu3O7-x薄膜的取向,微观结构和电性能的影响
机译:化学气相沉积法制备氧化铜薄膜的合成,表征和电性能
机译:金属有机化学气相沉积法制备{100}取向外延Bicoo_3-bifeo_3薄膜的晶体结构和电性能
机译:低压对角线沉积法制备的生物摩米铭薄膜的电色敏性质
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:铁嵌入二硒化锆薄膜Fe(η5-C5H4Se)2Zr(η5-C5H5)2 2的低压化学气相沉积法制备
机译:氢气/甲烷比例对以电浆辅助化学气相沉积法制备碳密封镀层光纤之镀层结构与性质影响
机译:新型单固体源金属有机化学气相沉积法制备pbTiO {sub 3}和pb(Zr {sub x} Ti {sub 1 {minus} x})O {sub 3}薄膜
机译:金属有机化学气相沉积法制备CuInS 2 Sub>薄膜的方法,用该方法制备的CuInS 2 Sub>薄膜及其In 2 Sub> S的制备方法 3 Sub>薄膜
机译:用化学气相沉积法制备聚合物绝缘薄膜的方法及用该方法制备的聚合物绝缘薄膜
机译:Si Si Ni化学气相沉积法在硅基体上制备镍薄膜的方法以及在硅基体上制备硅化镍薄膜的方法
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