用椭偏法研究Al2O3薄膜的宽光谱特性

摘要

为了获得Al2O3薄膜的光学常数,采用德国SENTECH生产的SE850宽光谱反射式光谱型椭偏仪,测量和分析了用光控自动真空镀膜机沉积在K9玻璃基底上的Al2O3薄膜样品,得到了Al2O3薄膜在380nm^2300nm宽光谱上的光学常数曲线和薄膜厚度。结果表明:在建立单层模型、双层模型、单层加粗糙层模型三个模型后,分别采用了Cauchy模型和Tauc-Lorentz模型对薄膜进行测量,三个模型得到的厚度和光学常数结果基本一致,且与TFCalc软件的Al2O3薄膜的厚度计算值非常接近。不同模型下的光学薄膜的测量结果相近,说明该工艺条下镀制的光学薄膜厚度均匀,性能稳定,同时得到薄膜的折射率曲线。测量结果对Al2O3薄膜的膜系设计和多层膜的制备有一定参考价值。