衬底温度对HfOxNy薄膜光学性质的影响

张丽明; 王莹

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衬底温度对HfOxNy薄膜光学性质的影响

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采用射频反应磁控溅射法制备了HfOxNy 栅介质薄膜,并研究了HfOxNy 栅介质薄膜的光学特性随淀积温度的变化而发生变化的规律. 椭偏仪模拟结果显示HfOxNy 薄膜的折射率和消光系数都是随衬底温度的升高而增加,根据消光系数和吸收系数还得到了HfOxNy 薄膜的光学带隙值,随着衬底温度的升高,带隙减小,这主要是由于N 含量的增加所致.

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来源
《化学研究》 |2009年第3期|77-79|共3页
作者
张丽明; 王莹;
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作者单位

商丘职业技术学院,河南,商丘,476000;

商丘职业技术学院,河南,商丘,476000;

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正文语种 chi
中图分类薄膜物理学;
关键词
HfOxNy薄膜; 射频反应磁控溅射; 椭偏仪; 光学特性;

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