机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
Pulsed Laser Deposition (PLD); Copper oxide thin film; Bi-axial stress; Dynamic photo-transient current; ZnO/Cu;
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积氧化钇薄膜的微观结构和光学性能的影响
机译:衬底温度对高氧压脉冲激光沉积在SiO_2 / Si衬底上生长的LaNiO_3薄膜的微观结构和电性能的影响
机译:在各种氧气部分压力下通过脉冲激光沉积制备的Pt(111)/ Ti / SiO_2 / Si衬底上BifeO_3薄膜的结构和性质
机译:通过脉冲激光烧蚀生长的超导钇钡(2)铜(3)氧(7-x)薄膜的生长机理和电传输性质。
机译:脉冲激光沉积制备6H-SiC(0001)衬底上VO2薄膜的增强的相变特性
机译:脉冲激光沉积Bi2O3:HO3 +薄膜晶体结构对晶体结构,形态学和发光性能的影响:HO3 +薄膜
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响